Главная >> Новости >> Статьи >>

Магнетронные распылительные системы для нанесения полупроводниковых и диэлектрических пленок

Магнитостатика, электронная оптика

Ковриго В. М., Тымощик А. С. Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники (БГУИР), Кафедра микро- и наноэлектроники.

Для стандартных магнетронных распылительных систем характерна величина коэффициента использования материала мишени 15-25%. Проведенная работа по моделированию магнитного поля в пакете ELCUT 5.1 Student позволила достичь коэффициента использования материала мишени более 40%, что позволит сэкономить затраты на изготовление мишеней в 1,5-2 раза.

• Скачать полный текст (в формате PDF)