Новый подход к
моделированию полей
Языковые версии сайта:
Language no-Pyccku Global English Deutsch Espanol Francais Italiano Danmark Ceske Chinese

>> >> >>

Магнетронные распылительные системы для нанесения полупроводниковых и диэлектрических пленок

Ковриго В. М., Тымощик А. С.. Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники (БГУИР), Кафедра микро- и наноэлектроники.

Для стандартных магнетронных распылительных систем характерна величина коэффициента использования материала мишени 15-25%. Проведенная работа по моделированию магнитного поля в пакете Elcut 5.1 Student позволила достичь коэффициента использования материала мишени более 40%, что позволит сэкономить затраты на изготовление мишеней в 1,5-2 раза..

Download Скачать полный текст (в формате PDF)

Сертификаты ELCUT по ГОСТ, СП, ИСО, СанПиН


Карта сайта